PVD Titanium-mål

Tætheden af titanium er 4.506-4.516 gram pr. kubikcentimeter (20 °C), hvilket er højere end aluminium og lavere end for jern, kobber og nikkel. Men den specifikke styrke er på toppen af metallet. Smeltepunkt 1668±4 °C Titanium har dårlig termisk ledningsevne og elektrisk ledningsevne, svarende til eller lidt lavere end rustfrit stål, og titanium har superledningsevne.

Vigtigste krav til ydeevne i PVD Titanium Target: renhed er det vigtigste præstationsindeks for målmateriale, fordi renheden af målmateriale har stor indflydelse på filmens ydeevne. Men i praksis er renheden af målmaterialet ikke den samme. For eksempel, med den hurtige udvikling af mikroelektronikindustrien, udvikler størrelsen af silicium wafer fra 6 ", 8 "til 12", og ledningsbredden falder fra 0,5um til 0,25um, 0.18um eller endda 0.13um. Tidligere kan 99,995% af målrenhed opfylde de teknologiske krav på 0,35UMIC. Præparatet af 0,18um linje kræver 99.999% eller endda 99.9999% renhed af målmateriale. Indhold af urenheder: Urenheder i faste stoffer i målmaterialet og ilt- og vanddamp i porerne er de vigtigste forureningskilder for de deponerede film. Forskellige målmaterialer til forskellige formål har forskellige krav til forskelligt indhold af urenheder.

Egenskaber ved PVD Titanium Target materiale:

1, brugen af faseaflejring belægning, øge værktøjets overfladestyrke.

2, anvendelse af avanceret teknologi produktion af rent metal og videnskabelig avanceret nye mål materiale struktur design.

3 Brug rent metal og legering målmateriale, høj renhed, høj densitet, fremragende struktur, lang levetid.

4, produktspecifikationerne er komplette, herunder cirkulære, cirkulære, rektangulære og rørformede former, størrelser kan tilpasses efter brugerkrav.

Ikke-jernholdige metaller, sjældne metaller, mekanisk og elektrisk udstyr forarbejdning (undtagen smeltning) og salg; At deltage i import og eksport af produkter inden for virksomhedens forretningsområde. (For projekter, der er godkendt i henhold til loven, kan forretningsaktiviteter kun udføres efter godkendelse af relevante afdelinger).

Multi bue ion magnetron sputtering mål høj renhed titanium titanium sputtering mål materialer af mål cylindriske titanium mål, titanium plade, titanium rør mål ubalanceret magnetron sputtering målmateriale, titanium forskningsmålet, titanium titanium magnetron sputtering mål materialer, titanium mål med 99,99%,PVD Titanium Target, mere end bue titanium mål, titanium overflade mål, wafer cirkulær titanium mål, dc sputtering målmateriale titanium, titanium høj tæt homogen målmateriale, ion sputtering målmateriale titanium plating, Titanium mål for mellemfrekvens AC reaktiv sputtering, titanium mål for limning svejsning, titanium mål for rf sputtering, titanium mål for asymmetrisk puls sputtering, titanium mål for ion stråle sputtering, roterende titanium mål

Titanium emne har en bred anvendelse udsigt i rumfart og andre områder på grund af sin fremragende ydeevne, men det er også begrænset af sin forarbejdning effektivitet og produktionsomkostninger. Med udviklingen og udviklingen af titaniumlegering, forøgelse af titaniummaterialesorter og prisfaldet vil anvendelsen af titanium i den civile industri stige eksponentielt, især inden for skibsbygning, bilproduktion, kemisk industri, elektronik, marineudvikling, biomedicin, havvandsafsaltning, geotermisk elproduktion, spildevandskorrosion og andre civile områder vil blive udbredt. Samtidig vil efterspørgslen på markedet også fremskynde udviklingen af titaniumindustrien og titaniummaterialeforarbejdningsteknologien.

Populære tags: pvd titanium mål, Kina, leverandører, producenter, fabrik, tilpasset, engros, købe, pris, billig, salg, citat, på lager, gratis prøve