Analyse af præstationskrav vedrtitanium måli forskellige brancher
Gmail:alisa@jmyunti.com
I. Grundlæggende præstationskrav til titaniummål
① Renhed: Som en af de vigtigste præstationsindikatorer for målmaterialer har renhed en afgørende indflydelse på ydeevnen af tynde film. I praktiske anvendelser varierer kravene til målrenhed fra branche til branche. For eksempel, i mikroelektronikindustrien, med den kontinuerlige stigning i størrelsen af siliciumwafer og det kontinuerlige fald i ledningsbredden, er kravene til målrenhed også stigende. Tidligere kunne 99,995 % målrenhed opfylde proceskravene for 0.35um IC, men nu kræver forberedelsen af 0.18um linjer, at målrenheden når 99,999 % eller endda 99,9999 %.
② Urenhedsindhold: Urenheder i målfaststoffet og oxygen og vanddamp i porerne er de vigtigste kilder til forurening af aflejrede film. Derfor har mål til forskellige formål forskellige krav til indhold af urenheder. For eksempel stiller mål af rene aluminium og aluminiumslegeringer, der anvendes i halvlederindustrien, særlige krav til indhold af alkalimetal og indhold af radioaktive grundstoffer.
③ Densitet: For at reducere porerne i målfaststoffet og forbedre ydeevnen af den sputterede film, kræves det normalt, at målet har en højere densitet. Målmaterialets tæthed påvirker ikke kun sputteringshastigheden, men påvirker også filmens elektriske og optiske egenskaber. Derudover kan en forbedring af densiteten og styrken af målmaterialet også gøre det bedre modstå den termiske belastning under sputteringsprocessen. Derfor er tæthed også en af de vigtigste præstationsindikatorer for målmaterialet.
④ Kornstørrelse og kornstørrelsesfordeling: Målmaterialet er normalt en polykrystallinsk struktur, og kornstørrelsen kan variere fra mikron til millimeter. For det samme målmateriale er sputteringshastigheden for et mål med fine korn sædvanligvis hurtigere end for et mål med grove korn; og tykkelsesfordelingen af filmen afsat ved sputtering af et mål med en lille forskel i kornstørrelse (ensartet fordeling) er mere ensartet.
2. Renhedskrav til titaniummål i forskellige industrier
① Titanmål brugt i integrerede kredsløb: Integrerede kredsløb har ekstremt høje renhedskrav til titaniummål, normalt større end 99,995 % for at sikre filmens ydeevne og stabilitet.
② Titaniummål brugt i fladskærme: Fladskærme omfatter flydende krystalskærme, plasmaskærme, elektroluminescerende skærme og feltemissionsskærme. Disse skærme bruger ofte sputtering coating-teknologi til at afsætte tynde film under fremstillingsprocessen. Blandt dem skal titaniummål, som et af de vigtige sputtermål, normalt have en renhed på mere end 99,9 %. Derudover kan titanium-mål også bruges i vid udstrækning inden for højteknologiske områder som elektronik, informationsindustri, boligindretning og fremstilling af bilglas. I disse industrier bruges titanium-mål hovedsageligt til belægning af integrerede kredsløb, fladskærme eller som dekoration og glasbelægning. Ved at optimere ydeevnen og renheden af titanium-mål kan kravene fra forskellige industrier til filmydeevne og stabilitet opfyldes.
Firma: Baoji Dynamic Trading Co., Ltd
Land: Kina
Tilføj: Baoti Road, Jintai, Baoji city, Shaanxi, Kina
Cel:+86 18391896637(WHATSAPP)/18391894207
Gmail:alisa@jmyunti.com
Hjemmeside: www.jm-titanium.com
